韩国专家质疑EUV光刻机自研可能性：十年内难以突破技术壁垒
在当今全球高端芯片制造的激烈竞争中，极紫外（EUV）光刻机已成为不可或缺的核心装备。它是实现5纳米及以下先进制程工艺的关键，而目前该技术的生产与供应完全由荷兰ASML公司所垄断。值得注意的是，ASML的成功并非仅凭一己之力，其背后整合了来自美国、欧洲以及亚洲多个国家的顶尖技术与核心部件，堪称全球产业链协作的典范。
正因技术集成度极高、壁垒森严，当有国家宣布要独立自主研发EUV光刻机时，其面临的挑战是空前巨大的。光刻机常被喻为“现代工业皇冠上的明珠”，而EUV技术相较于成熟的深紫外（DUV）光刻机，其复杂程度更是提升了数个量级，这也导致其单台售价高达数亿美元。
对于这一雄心勃勃的科技攻关计划，国际业界和学界看法各异。近日，韩国媒体引述了汉阳大学材料科学教授安振浩的评论，他对短期内实现EUV光刻机自研持怀疑态度。安教授认为，要在十年内开发出可用于大规模量产的EUV光刻机，可能性极低。
安振浩教授是韩国工程院大奖的获得者，在材料科学与半导体领域拥有深厚的学术背景。即便如此，他对传闻中“2028年交付量产型EUV光刻机”的时间表明确表示质疑。
他的论据十分直接：即便是像日本尼康这样在光刻领域深耕数十年的行业巨头，也从未在EUV技术上取得实质性成功。这充分表明，攻克EUV绝非仅靠资金投入和国家决心就能快速实现，其背后存在着极高的物理、光学和工程学门槛。
安教授进一步分析指出，ASML的成功模式具有特殊性。该公司投入了数十年的时间进行EUV技术研发，并且深度依赖一个高度专业化、紧密协作的全球供应链体系——例如德国蔡司提供的超高精度光学系统，以及特定的尖端激光等离子体光源。这本质上是一项极其复杂的系统性工程。
当然，针对安教授的论断，也存在不同的解读声音。有分析指出，其论证逻辑可能存在局限：尼康的失利并不能直接证明其他竞争者也无法成功。同时，将“全球协同”视为不可复制的绝对前提，或许低估了某些国家内部可能构建的、深度且完整的科研与产业协作体系。这些国家内部的研发机构规模、技术积累以及跨领域协作深度，有时足以媲美大型国际联合项目。
归根结底，安教授接受韩国媒体采访时所发表的看法，可能更多是基于当前全球半导体设备行业的普遍认知。他或许并未深入了解特定国家在EUV光刻技术领域的详细科研规划、具体进展与资源投入强度。因此，其“十年内难以搞定”的结论，在一些行业观察家看来，论据可能不够全面和充分。
