ASML新一代EUV光刻机性能解析:中国留学生关键技术贡献揭晓
2月25日消息,荷兰ASML公司是目前全球唯一能够量产EUV光刻机的企业。然而,现有的EUV技术仍面临诸多挑战,尤其是光源功率不足的问题,严重制约了产能的进一步提升。
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日前,ASML宣布了一项重要突破:成功将EUV光源功率翻倍提升至1000W,实现了革命性的性能飞跃。详细技术介绍可参考早前报道:ASML全新EUV光刻机性能暴增!1000W功率结合50%效率提升,产能同步增加50%。
简单来说,当前EUV光刻机的功率大约在600W左右,导致每小时晶圆产量仅为220片。而在功率提升至1000W后,产能将跃升至每小时330片晶圆。
实现这一突破的关键在于技术革新:ASML采用1微米的预脉冲取代了原先10微米的预脉冲,同时将锡滴喷射频率从每秒5万次提高到10万次。这样一来,就能产生更多的极紫外光。
这项技术不仅能够达到1000W的功率水平,未来还有望进一步提升至1500W甚至2000W级别。这意味着EUV光刻机的效率和产能将持续增长,从而大幅降低EUV芯片的生产成本。
不过,目前该技术尚未投入量产,预计仍需数年时间才能实现商业化应用。

总而言之,ASML此次公布的EUV技术进展,意味着他们在这方面的技术优势再次扩大,其他竞争者想要挑战的难度也随之大增。
值得一提的是,这项技术诞生的背后,研发团队中除了欧美人员外,还包括多位中国研究员。论文的多位作者中有Qiushi Zhu、Yue Ma以及Haining Wang,其中Haining Wang不仅是排名第一的作者,也是这篇论文的宣讲者。

从Haining Wang的履历来看,他二十多年前曾获得国家优秀自费留学生奖,2016年于美国康奈尔大学获得博士学位,同年加入ASML公司。在EUV研究部门中,他担任科学家兼架构师,专注于研究LPP等离体技术路线的成果和基础物理。

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