1.1亿元光刻机中标解析：分辨率低于110nm的关键因素
12月25日消息，国产光刻机的每一步进展都备受瞩目，任何新动态都能迅速成为业界焦点。今天，一则关于上海微电子中标光刻机的采购信息，再次引发了广泛关注。
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在中国政府采购网上，一份编号为zycgr22011903的采购公告显示，科技部以单一来源方式采购了一台步进扫描式光刻机，中标金额约为1.099亿元，中标方为上海微电子公司，货物型号为SSC800/10。
截至发稿时，这份中标公告虽然仍在网站上，但其详情页面已经无法打开了。
上海微电子的SSC800型号此前并未公开披露过。有印象的网友或许还记得，前两年网络上曾流传过SSA800的型号，据称是一台28nm光刻机。SSC800的型号命名与这个系列一脉相承，很可能是采用同期技术的产品。
不过，严格来说，“28nm光刻机”的说法并不准确，至少是不严谨的。光刻机一次曝光的分辨率并没有那么高。SSC800的分辨率为110nm，套刻精度则为15nm。
2024年9月，工信部曾公布《首台（套）重大技术装备推广应用指导目录（2024年版）》。其中提到的氟化氩光刻机有两种，光源均为193纳米。其中，浸没式型号的分辨率≤65nm，套刻精度≤8nm；而干法型号的分辨率≤110nm，套刻精度≤25nm。
此次上海微电子中标的型号，应该属于干法光刻机，并非大家预期中那种技术指标非常顶尖的产品。
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