12月7日消息，前不久关于日本断供光刻胶的传闻引发了广泛关注。尽管日方对此予以否认，但在光刻胶这一关键领域，日本企业确实掌握着全球多数半导体公司的命脉。

尤其是在先进的EUV光刻胶技术上，目前市场主要被日本JSR、信越化学、东京应化TOK等公司掌控。前几年日韩爆发贸易争端后，日本便停止了对韩出口光刻胶等三种关键材料。

这几年来，韩国也一直在加速半导体核心技术与材料的国产化进程。此前虽有说法称韩国已成功解决EUV光刻胶，但实际情况并非如此。所谓的解决，只是日本公司为绕过政策限制，将对韩出口从本土公司改为海外分公司供货而已。韩国三星、SK海力士等企业，依然依赖日本公司的EUV光刻胶供应。

相比三星，SK海力士主要生产存储芯片。此前对EUV光刻胶的需求并不算高，但随着工艺制程的不断提升，内存芯片也必须大量采用EUV光刻工艺。为此，他们联合了韩国东进世美肯公司，共同合作开发EUV光刻胶。

双方合作的目标，不仅要替代日本公司的EUV光刻胶，更要在性能上实现超越，特别是在光敏性方面，以提高芯片的生产效率。

光刻胶的光敏性越强，所需的曝光时间就越短，生产效率自然更高。即便是同样的EUV光刻机，采用先进光刻胶的生产能力也完全不同。

随着内存芯片制程不断逼近10纳米甚至更低的节点，所需的EUV光刻层数也在持续增加。第七代1d工艺已经需要7层EUV了，未来这个数字只会继续攀升。