美国限制DUV光刻机出口 ASML总裁称中国自研加速关乎存亡
5月21日，在比利时安特卫普的一场科技活动上，ASML首席执行官克里斯托夫·富凯面对媒体，就美国不断加码的对华芯片限制措施，给出了一个颇为形象的回应。
他没有直接谈论复杂的供应链或技术参数，而是打了个比方：“想象一下，如果把你丢进沙漠，并且告诉你从此再也得不到任何食物补给，你需要多久才能自己开垦出一片菜园？这已经无关竞争，而是生存问题。”
这个比喻的指向性非常明确。富凯的言下之意是，美国层层加码的出口管制，正在产生一种与初衷相悖的“激励”效果：限制越严苛，中国自主研发替代技术的决心和动力就越强，进程也可能被推得越快。
这种压力并非空xue来风。就在今年4月，美国国会提出了《硬件技术控制多边协同法案》（即MATCH法案），意图强制其盟友跟随美国的步伐，收紧对华出口管制。该法案甚至计划将ASML所有型号的浸润式DUV光刻机都纳入限制范围。此举已经引发了荷兰政府的正式抗议。
富凯进一步解释道，ASML目前获准向中国客户出售的DUV设备，其技术基础实际上源于2015年。这意味着，即便进一步收紧限制，对中国现有的芯片制造能力也难有实质性的削弱。相反，它更像是一剂催化剂，只会让中国在自主研发的道路上跑得更快、更坚决。
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ASML首席执行官以沙漠求生比喻指出，美国加码对华芯片出口管制正产生反效果。限制越严苛，中国自主研发替代技术的决心和进程就越强越快。美国拟将更多光刻机纳入禁售范围已引发荷兰抗议，而现有受限设备技术基础较旧，进一步限制难以削弱中国制造能力，反而加速其技术自主。
ASML首席执行官预测，2030年全球芯片市场规模或达1 5万亿美元，但人工智能的强劲需求将使供应受限状态持续较长时间。公司正提升极紫外光刻机产能以应对挑战，并推进HighNAEUV等新技术。同时，他担忧欧盟人工智能法案的严格监管可能阻碍欧洲AI竞争力，呼吁修改政策以鼓励创新。
ASML新一代High-NA极紫外光刻机打造的首批芯片将在未来数月面世。该设备是制造2纳米及更先进芯片的核心，能显著提升电路精细度并有望降低高端制造成本。尽管设备单价高昂，台积电持审慎态度，但英特尔与SK海力士已积极布局，以争夺下一代技术领先优势。
荷兰这次对美国说“不”，确实让很多人感到意外。美国试图进一步施压，要求荷兰禁止ASML公司向中国出售光刻机设备，甚至停止提供现有设备的维修服务，但荷兰方面的回应却异常坚决，没有留下多少回旋余地。 ASML的地位无需赘言——它是全球唯一能够制造尖端极紫外光（EUV）光刻机的厂商。可以说，当今所有高端手
美国两党议员推动新法案，意图禁止ASML向中国销售DUV光刻机并提供售后服务。荷兰政府公开反对，批评该法案的域外管辖损害主权，将冲击半导体行业营收与全球贸易稳定性。荷兰已通过高层外交向美方表达立场，此事关乎科技供应链规则演变。
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