台积电赴日建4nm新厂，2nm工艺同步规划
12月21日消息，台积电近年来除在美国大手笔投资外，其日本熊本县的布局同样引人注目。一期工厂主要生产40/28nm及16/12nm工艺芯片，已量产超过一年，目前二期工厂的建设也已提上日程。
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然而，去年10月动工后不久，二期项目便传出暂停消息。原计划将工艺升级至6/7nm，但因该节点市场需求低迷，即便建成也难以吸引足够客户，台积电因此暂缓建设，转而评估新的方案。
此前一度传出二期工厂会升级至4nm工艺，但最新风向又变。据悉，台积电内部已将分析报告提交给CEO魏哲家，建议跳过4nm，直接升级至2nm工艺。原因在于，若选择4nm，两年后投产时或将面临AI客户转向2nm的困境。
转向2nm工艺，意味着二期工厂的未来客户将不再局限于日系品牌，而是面向全球范围内的英伟达、AMD等AI芯片客户。
若二期工厂果真升级为2nm这样的先进制程，日本方面无疑会乐见其成。这相当于帮助日本本土直接获得全球最先进的芯片工艺之一。毕竟，日本本土的Rapidus公司计划在2027年量产2nm工艺，其技术路径尚不明朗，且难以获得大客户订单，仍需依赖政府持续输血补贴。
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