ASML在美首建技术学院:每年培训上千名芯片设备工程师
11月23日,荷兰光刻设备制造商阿斯麦(ASML)在美国凤凰城正式启用了其新建的技术培训学院。据了解,该学院旨在为当地半导体行业培养能够维护和维修高端光刻设备的技术人才。
这座培训学院紧邻凤凰城机场,交通便利,规划年培训能力超过1000人次,主要面向ASML复杂的光刻系统提供专业技术服务支持。
ASML选择在美国设立培训中心,主要是为了应对近年来美国本土先进芯片制造产能的快速扩张。英特尔与台积电已在菲尼克斯周边启动大规模晶圆厂建设;三星也在扩大其位于得州奥斯汀的半导体生产线。此外,美光等存储芯片制造商同样规划了在美国的数十亿美元投资计划。
这是ASML近20年来在美国设立的首个自有培训设施。此前,工程师需要远赴欧洲或亚洲接受设备维护培训。新建成的学院设有14间教室和一座洁净室,具备全天候运营条件。ASML副总裁克莱顿·帕奇表示,未来年培训规模有望逐步提升至2000人。
目前该中心已开始承接培训任务。除ASML自身技术团队外,其他晶圆厂运营商也可付费派遣工程师前来接受专业训练。
据帕奇介绍,针对ASML设备的基础维护培训通常需要3至6个月;若涉及更复杂的维修任务,培训周期将进一步延长。

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ASML首席执行官指出,对华出口管制需更统一稳定的规则。过度限制将加速中国自主研发,反噬限制者。荷兰反对美国推动的进一步管制法案。市场数据显示中国进口光刻机已下降,而国内产业正加速自主突围,行业领袖呼吁举国之力攻克光刻机等核心设备瓶颈。
ASML首席执行官以沙漠求生比喻指出,美国加码对华芯片出口管制正产生反效果。限制越严苛,中国自主研发替代技术的决心和进程就越强越快。美国拟将更多光刻机纳入禁售范围已引发荷兰抗议,而现有受限设备技术基础较旧,进一步限制难以削弱中国制造能力,反而加速其技术自主。
ASML首席执行官预测,2030年全球芯片市场规模或达1 5万亿美元,但人工智能的强劲需求将使供应受限状态持续较长时间。公司正提升极紫外光刻机产能以应对挑战,并推进HighNAEUV等新技术。同时,他担忧欧盟人工智能法案的严格监管可能阻碍欧洲AI竞争力,呼吁修改政策以鼓励创新。
ASML新一代High-NA极紫外光刻机打造的首批芯片将在未来数月面世。该设备是制造2纳米及更先进芯片的核心,能显著提升电路精细度并有望降低高端制造成本。尽管设备单价高昂,台积电持审慎态度,但英特尔与SK海力士已积极布局,以争夺下一代技术领先优势。
荷兰这次对美国说“不”,确实让很多人感到意外。美国试图进一步施压,要求荷兰禁止ASML公司向中国出售光刻机设备,甚至停止提供现有设备的维修服务,但荷兰方面的回应却异常坚决,没有留下多少回旋余地。 ASML的地位无需赘言——它是全球唯一能够制造尖端极紫外光(EUV)光刻机的厂商。可以说,当今所有高端手
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