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上海微电子中标1.1亿元国产光刻机项目:步进式扫描设备

上海微电子中标1.1亿元国产光刻机项目:步进式扫描设备

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2025-12-25

据中国政府采购网12月25日发布的公告显示,国产光刻机制造商上海微电子装备(集团)股份有限公司(以下简称“上海微电子”)成功中标一台步进式扫描光刻机,成交金额约1.1亿元。

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成交金额1.1亿元 上海微电子中标1台步进式扫描光刻机

目前在全球光刻机市场,ASML、佳能以及尼康是最大的三家供应商,合计占据了超过99%的市场份额。

其中,ASML在中高端光刻机市场中更是一家独大,其份额超过90%,并且是全球唯一一家拥有可用于7nm以下工艺制程的EUV光刻机的供应商。

近些年来,随着先进制程的持续迭代,ASML凭借其独家销售、单价超过1.5亿美元的EUV光刻机,使其在光刻机市场的销售份额持续提升。

相比之下,上海微电子由于起步较晚,加之国外的技术封锁,使其在技术上与国外厂商仍存在较大差距。

成交金额1.1亿元 上海微电子中标1台步进式扫描光刻机

早在2002年,光刻机就被列入国家863重大科技攻关计划,上海微电子装备有限公司也由此成立。

公司主要致力于半导体设备、泛半导体设备以及高端智能装备的设计、制造与销售。其中,光刻设备是公司的主营业务,广泛应用于集成电路产业链中的晶圆制造、封装测试,以及平板显示、高亮度LED等领域。

截至2020年3月,上海微电子直接持有各类专利及专利申请超过3200项,同时通过建设并参与产业知识产权联盟,进一步整合共享了大量联盟成员的知识产权资源,涉及光刻机、激光与检测、特殊应用类等各大产品技术领域,全面覆盖了上海微电子产品的主要销售区域。

公司正式产品资料显示,上海微电子的光刻设备主要包括SSX600系列步进光刻机、SSB500系列步进光刻机、SSB300系列步进光刻机、SSB200小Mask系列曝光机、SSB200大Mask系列曝光机。

成交金额1.1亿元 上海微电子中标1台步进式扫描光刻机

其中,SSX600系列步进扫描投影光刻机采用四倍缩小倍率的投影物镜、工艺自适应调焦调平技术,以及高速高精的自减振六自由度工件台掩模台技术,可满足IC前道制造中90nm、110nm、280nm关键层和非关键层的光刻工艺需求,可用于8英寸产线或12英寸产线。

SSB500系列步进投影光刻机主要应用于集成电路先进封装领域,包括Flip Chip、Fan-In、Fan-Out WLP/PLP和2.5D/3D等先进封装形式,可满足Bumping、RDL和TSV等制程的晶圆级/方板级光刻工艺需求。

SSB300系列步进投影光刻机主要应用于2~6英寸基底的先进光刻领域,可满足Micro/Mini LED、新型化合物半导体器件和MEMS等芯片制程的光刻工艺需求。

此次中标公告中公布的上海微电子的产品型号为SSC800/10,虽然官方尚未正式公布这款产品的详细资料,但第三方资料显示,这款光刻机单次曝光可实现28纳米制程,通过多图案曝光技术可提升至11纳米分辨率。


文章出处:芯智讯
来源:https://m.mydrivers.com/newsview/1094701.html
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