三星美国厂3月测试EUV光刻机，加速部署2nm GAA工艺路线
1月19日，《韩国经济新闻》消息称，三星电子计划于今年三月起，在其位于美国德州的泰勒一号工厂启动极紫外光刻机测试。随后，该公司将陆续引进刻蚀、沉积等关键设备，目标是在今年下半年实现量产。
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据业界人士透露，三星已向德州政府申请了工厂的临时使用许可。在满足消防、安全等规定后，该工厂即可在正式竣工前投入使用。同时，为了尽快稳定产能、提升良率，三星已向当地派遣了大量经验丰富的“王牌级”工程师。
该报记者于1月10日走访了泰勒工厂，发现其外观相比一年前已发生巨大变化：建筑周围的塔吊几乎全部撤走，曾经空旷的停车场如今停满了各式品牌的车辆。
现场施工人员表示：“目前每天进入工地的人员约有7000名，同时，6层办公楼内已有1000人开始办公，大家都在为下半年投产做积极准备。”
据了解，泰勒工厂占地面积约485万平方米，已超过三星在韩国本土的平泽工厂（289万平方米）与华城工厂（157万平方米）面积之和。令人瞩目的是，三星仅用四年时间就完成了主体建设，其建厂速度甚至比在韩国本土更快。
此外，这家工厂的初期产能已被预订一空。去年七月，三星从特斯拉获得了价值165亿美元的AI5、AI6芯片订单。当时，特斯拉首席执行官埃隆·马斯克在社交平台X上表示：“这个数字只是最低预期，实际生产量可能是其数倍。”
同时，高通首席执行官安蒙在今年早些时候接受采访时也透露：“我们正考虑将下一代AP芯片的生产任务交给三星。”
如果客户订单持续增加，三星很可能会让泰勒二号工厂提前投产。该工厂目前正在进行基础施工，其定位是面向大型科技公司的“扩展基地”。三星已为此预留了充足的土地，最多可建设10座工厂，以应对人工智能时代不断飙升的代工需求。
业内有观点认为，三星能否成功，关键在于其能否满足首位大客户特斯拉的严苛要求。若能顺利过关，美国科技公司未来或许会减少对台积电的依赖。
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