浙江征求晶圆制造突破规划：3-7nm工艺与先进光刻机发展意见
1月12日消息，浙江省经济和信息化厅日前发布通知，就《浙江省“十五五”新型工业化规划（征求意见稿）》公开征求社会各界意见。
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意见稿强调，在中国式现代化建设全面推进、强国建设与民族复兴伟业迈入新征程的关键时期，实现新型工业化是其中的核心任务。为扎实推进新型工业化进程，加快建设全球先进制造业基地，特制定本规划。规划的实施期限定于2026年至2030年。
征求意见稿明确指出，在芯片设计与制造领域，需重点突破低功耗芯片设计技术，并着力发展高端通用芯片、专用芯片以及智能芯片等。同时，积极开发基于第五代精简指令集架构的芯片产品。
在晶圆制造领域，要加速突破3-7纳米先进制程工艺。关键材料领域，重点发展化合物半导体材料、电子特气、高纯靶材以及光刻胶等。关键设备领域，则需推进离子注入机、涂胶显影设备、先进制程光刻机、刻蚀机等核心装备的研发与产业化。
在封装测试领域，需加快攻克芯粒封装、三维异构集成封装、异质封装以及脉冲序列测试等关键技术。面向新一代半导体领域，积极发展氧化镓、金刚石、碳化硅、氮化镓等宽禁带半导体材料。
以下为此次征求意见稿原文的截图：
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