算力竞争正加速进入白热化阶段，而散热问题，已经成为制约芯片性能提升与数据中心能效优化的关键瓶颈。如何打破这堵“高墙”？答案，或许就藏在一颗人造金刚石之中。
近期，曙光数创发布了全球首款MW（兆瓦）级相变浸没液冷整机柜方案C8000 V3.0。这不仅是一台液冷设备的升级，更被视为算力基础设施迈向新一代的重要标志。其最核心的突破在于，首次将金刚石铜导热材料从实验室研究推进到规模化落地应用，使系统导热率提升80%，同时带动芯片性能提升约10%。
金刚石的热导率高达2000—2200 W/(m·K)，而传统铜材通常仅为400多 W/(m·K)。在高功率芯片散热这场与热量的较量中，金刚石几乎是理想选择。但天然金刚石成本过高，发展人工培育金刚石成为产业化应用的必由之路。这条技术路线，自1963年郑州三磨所制出国内第一颗人造金刚石起步，经历了从“能够制造”到“能够应用”的长期积累。如今，它终于走上芯片散热材料的核心舞台。
“种出”散热新基石
先看一组关键数据：全国数据中心用电量已连续8年保持年均12%的增长，年度总用电量甚至超过三峡大坝和葛洲坝发电量总和。而在数据中心能耗结构中，芯片散热恰恰是最主要、最关键的高耗能环节之一。
铜作为传统散热材料的主力，热导率约为400 W/(m·K)，但在高热流密度场景下，极易出现“热淤积”现象。长期运行后，芯片翘曲、开裂甚至失效等问题也随之频发。这就像一座城市的主干道只有双车道，一旦车流激增，拥堵几乎不可避免。
金刚石的应用，正好有望突破这一散热瓶颈。据中国机床工具工业协会超硬材料分会数据，金刚石热导率可达到2000—2200 W/(m·K），同时其热膨胀系数与SiC、GaN等第三代半导体材料高度匹配，堪称高功率芯片理想的高导热散热材料与“散热伴侣”。
不过，天然金刚石价格昂贵，人工培育才是唯一现实可行的产业化路径，但这条路并不轻松。目前主流的高温高压法虽然能够模拟地幔环境合成金刚石，却普遍存在晶体形貌、尺寸、纯度不够稳定的问题，难以满足半导体和芯片散热领域对材料品质的严苛要求。
“培育金刚石有点像种庄稼，需要‘种子’和‘养料’。”中国科学院宁波材料技术与工程研究所研究员江南用一个形象比喻，解释了CVD（化学气相沉积法）技术路线：以微小金刚石为籽晶，以甲烷等含碳气体为原料，在超高真空腔体中激发等离子体，让碳原子逐层有序沉积，最终生长成大尺寸、高品质的单晶金刚石。
十多年前，这套核心装备还完全依赖进口。2012年，从海外归国的江南带领团队启动关键技术攻关。“上百次失败，每次都令人沮丧，设备频繁故障，长出的材料发黑变质，根本称不上晶片。”回忆起那段经历，江南依然感慨。经过一年多持续不断的日夜攻坚，2013年12月31日深夜，团队终于取得历史性突破——国内第一片依托自主研发MPCVD设备及配套工艺合成的单晶金刚石，被成功“种”了出来。此后数年，相关装备与工艺持续迭代升级，晶体尺寸稳步提升至6英寸、8英寸，实现了全面国产化和自主可控。
今年2月28日，国内首条8英寸金刚石热沉片生产线在河南长葛正式投产，这标志着大尺寸金刚石散热材料正式迈入规模化量产新阶段。
破解黏合难题
在河南碳真芯材科技展厅内，一枚只有四分之一指甲盖大小的芯片静静陈列。这正是我国科研团队自主研发的金刚石铜复合散热材料，可视作一款专为芯片散热设计的高性能“散热贴”。
别看它体积轻薄，背后的技术研发过程却异常艰难。最大的挑战，正是金刚石与铜之间的黏合问题。“金刚石与铜的化学相容性极差，相遇会出现不浸润现象，就像水滴落在荷叶上，根本粘不住。”国机金刚石市场支持中心总经理陈宇鹏坦言。与此同时，金刚石热沉片虽然硬度高，但脆性也大，容易发生翘曲，即便勉强黏合，也难以与芯片实现高质量、无缝键合。
“让金刚石与铜‘牵手’，再与芯片‘贴合’，这才是真正最难啃的硬骨头。”
为突破这一芯片散热材料关键技术瓶颈，多地科研团队展开了持续数年的联合攻关。南京瑞为新材料科技团队潜心研究近三年，敏锐发现河南钻石厂废弃细粒金刚石可能成为突破口。这些看似不起眼的小颗粒，因为棱角丰富，能够与金属基材形成更紧密的机械咬合，恰恰成为破解黏合难题的重要原料。经过反复试验、调试与配方优化，团队成功研发出新型复合配比方案，创新采用表面金属化改性与铜基合金化设计，将界面热阻降低80%，让金刚石与铜实现了稳定、牢固结合。
与此同时，国机集团金刚石团队则通过优化粉体配比和烧结温控工艺，成功攻克板材翘曲这一核心难题。最终，他们将2英寸金刚石热沉片的翘曲度控制在10微米以内——这一精度相当于在一个标准足球场范围内，整体误差不超过1毫米。这也彻底扫清了材料与芯片实现无缝键合的最后障碍。
最终，依托哈尔滨工业大学的核心技术，河南碳真芯材团队完成了技术落地与量产转化，让这款国产芯片“散热贴”真正摆脱“实验室产品”的局限。正如孙兆达所说：“我国占据全球95%的工业金刚石产能，这为散热技术突破和高端散热材料产业化提供了坚实基础。”
搭载先进系统
散热材料实现突破，只是整个故事的一半。2026年CES展会上，英伟达宣布其下一代GPU将全面淘汰传统散热方式，转向“金刚石铜复合材料+液冷”的新型散热体系，正式开启全球算力散热系统新一轮迭代升级。
在这样的行业背景下，曙光数创C8000 V3.0的价值显得更加突出。它通过对散热、供电、控制与结构进行系统性重构，成为支撑高功率芯片高速、稳定运行的重要底座。优质散热材料，必须与先进液冷系统协同配合，才能真正释放最大效能。
“智算中心已不可逆转地迈入兆瓦级时代。”中国科学院院士、河南大学校长张锁江判断。随着超高功率芯片持续迭代，算力密度不断提升，仅靠单一散热材料优化，已经无法彻底解决高热淤积问题，必须依赖系统级散热技术创新，构建完整、高效的散热闭环。
金刚石铜复合材料虽然具备极强的快速吸热能力，但如果缺少与之匹配的高端散热系统，材料吸收的热量就无法及时排出，最终仍会在设备内部聚集。这不仅难以发挥超高导热优势，还可能导致芯片降频、设备损耗增加。C8000 V3.0的推出，恰恰解决了这一关键难题，实现了散热材料与液冷系统的高效适配。据曙光数创资深技术专家黄元峰介绍，该项目首次实现了金刚石铜复合材料的规模化应用，在芯片硬件规格不变的前提下，实测系统计算性能提升约10%，在高密度集群场景中甚至达到或超过国际主流水平。
作为核心散热载体，C8000 V3.0充分承接了金刚石铜材料的高导热优势，构建起“极速吸热+高效排热”的完整散热链路。其换热效能达到传统方案的3到5倍，能够快速带走金刚石铜材料传导出的芯片核心热量，从源头避免热量淤积。
材料创新负责实现热量快速导出，系统创新则负责完成热量高效消散。这套“金刚石铜新材料+浸没液冷新系统”的双重赋能方案，从根本上破解了超高密度算力场景下的散热难题，为国内智算产业提质增效，以及全球算力基础设施的绿色升级，提供了有力支撑。
