极紫外光刻推动晶圆级固态纳米孔制造革新
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长久以来，极紫外光刻技术一直主导着高性能逻辑与存储芯片的制造领域。而在2025年12月22日，比利时微电子研究中心宣布取得一项关键进展：他们首次利用ASML的极紫外光刻设备，成功在300毫米晶圆上实现了固态纳米孔的晶圆级制备。
该成果被技术负责人盛赞为生物医学应用领域一次令人振奋的拓展。纳米孔是一种直径不过数纳米的微型结构，大小仅相当于一根人类头发丝的万分之一。在生物传感中，这些微孔扮演着“分子检查站”的角色。当离子电流流经孔道时，病毒、蛋白质或DNA等分子通过会产生独特的电信号，从而让研究人员得以精准识别分子的尺寸、结构以及电荷特性。
虽然纳米孔在基因测序、蛋白质分析等应用上前景广阔，但传统制造方法因工艺偏差大、集成困难等问题，一直难以实现规模化量产。而这次突破的核心在于引入了极紫外光刻技术，极大提高了孔径的一致性和精度。如今，纳米孔的直径已经能够控制在10纳米左右，随着工艺的不断优化，未来甚至有望缩小到5纳米以下。
更重要的是，这一制造工艺与现有CMOS技术完全兼容，这意味着生物传感器可以像集成电路那样，在标准尺寸的晶圆上进行大批量、高集成度的生产。项目负责人指出，将芯片产业中成熟的先进光刻基础设施引入生命科学领域，为开发高通量、多功能的生物传感阵列开辟了新途径，有力推动了相关技术走向产业化。
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