ASML加速布局：2027年前将交付10台High-NA EUV光刻机
在全球半导体产业加速发展的背景下，ASML这家光刻机巨头的最新交付计划引发了业界广泛关注。根据最新披露的数据，该公司将在2027年向客户提供总计66台光刻设备，这一数字不仅包含56台传统EUV光刻机，还包括10台采用革命性High-NA技术的极紫外光刻设备。
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值得注意的是，两大芯片制造巨头英特尔和三星近期都在加大设备采购力度。其中英特尔将High-NA EUV设备的采购数量从原先的1台增加到了2台，传统EUV设备也从3台增至5台。三星方面则在传统EUV设备上追加了2台订单，使其总量达到7台之多。
在存储芯片领域，SK海力士展现出了最为积极的布局态势。该公司一举拿下了20台传统EUV设备的订单，这一数量占ASML全年出货量的三分之一强。更令业界瞩目的是，SK海力士还将High-NA EUV设备的订购量翻了一番。消息人士透露，该公司计划在未来24个月内完成这批设备的安装调试工作，专门用于HBM存储器和新一代存储产品的研发生产。
就技术商业化进程而言，英特尔暂时保持着领先地位，有望成为首家将High-NA EUV技术投入量产的芯片制造商。不过三星和SK海力士正在通过大规模设备采购来缩短差距。特别是SK海力士，该公司正在紧锣密鼓地筹建全新的洁净车间，以满足新购入设备的安装需求。
虽然部分芯片制造商推迟了High-NA EUV技术的应用时间，但市场分析师普遍认为，这并不影响光刻设备的长期需求增长。得益于人工智能、云计算等新兴领域的蓬勃发展，全球半导体企业纷纷加大了对先进制程设备的投资力度。ASML不断增长的订单量，恰好印证了半导体产业正在经历的这场深刻的产能升级与技术革新。
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