SK海力士急扩EUV光刻机部署，计划两年内数量翻倍
据韩媒etnews当地时间9月24日报道，SK海力士正计划在未来两年内采购约20台ASML的EUV光刻设备。目前该公司已拥有20台用于研发和生产的EUV机台，届时其EUV设备保有量将扩大一倍。
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作为存储芯片领域的领军企业，SK海力士的DRAM产线已自2024年1a nm工艺节点开始采用EUV光刻技术并实现量产。随着工艺制程的持续迭代，EUV设备的使用范围也在不断扩大。
在人工智能技术快速发展的推动下，市场对高性能存储产品特别是HBM的需求激增。为此，SK海力士需要通过增购EUV设备来提升先进DRAM芯片的产能。
值得注意的是，继现有主流的Low-NA EUV光刻机之后，SK海力士于本月在其位于韩国利川的M16工厂成功部署了全球存储器行业首台量产型High-NA EUV光刻机——ASML TWINSCAN EXE:5200B，这标志着存储芯片制造技术迈入新阶段。
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