日本为何紧盯台积电2nm？刻蚀机价值堪比EUV光刻机

8月29日消息，台积电2nm工艺窃密案近日正式侦结，共有3人被起诉，最高可能面临14年有期徒刑，法律后果相当严重。

该案还牵涉到日本半导体设备巨头KEL威力科创。主犯陈某曾在台积电任职，离职后加入该公司。威力科创是全球顶级的半导体设备供应商之一。

事发后，威力科创已解雇该员工，并发布公告称，经内部调查未发现有机密信息泄露至第三方，也未发现公司有组织性地指使该员工获取不当信息。

尽管公司否认与窃密案有关，但其对台积电2nm技术的兴趣显而易见。有分析认为，这与威力科创同为日本Rapidus公司的合作伙伴有关，后者也正研发2nm工艺，计划在2027年实现量产。

不过，这一说法目前仍属业界推测。考虑到台积电是威力科创的重要客户，该公司似乎没有必要冒险为他人谋利。更可能的原因是商业利益——威力科创希望争取台积电2nm工艺的设备订单，尤其是刻蚀设备部分。

在半导体制造中，光刻机固然关键，2nm工艺需使用EUV光刻机，单台价格介于1.5亿至2亿美元，下一代High NA EUV设备甚至高达3-4亿美元。

然而，刻蚀机在先进制程中同样至关重要。一座台积电2nm工厂需配置超过100台刻蚀机，单价约300-400万美元，订单总价值可达3-4亿美元，甚至超过光刻机的金额。

目前有实力竞标台积电2nm刻蚀订单的仅有三家企业：除了威力科创，还有美国的LAM科林集团和应用材料公司（AM）。这些厂商将竞争台积电未来近10座2nm晶圆厂的设备订单。

威力科创员工与台积电内部人员勾结获取技术资料，显然有助于其优化设备以适配台积电工艺，从而提高中标概率。本质上，仍是商业利益驱动所致。

相比其他猜测，这一解释更为合理。不过威力科创已迅速撇清责任，否认指使员工窃密，将问题归咎于个人行为。

至于双方未来的合作关系，多年积累的业务往来不会轻易中断。据悉，威力科创高层计划拜访台积电，双方将继续就2nm设备订单进行协商，最终结果或将取决于商业条件与谈判进展。