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台积电2nm工艺机密疑遭窃,威力科创社长或再度赴台致歉

时间:2025-08-25    作者:游乐小编    

8月21日消息,近期引发广泛关注的台积电2nm工艺技术遭泄露事件持续发酵。据悉,此次事件牵涉到日本半导体设备巨头——威力科创(TEL,东京电子)。

根据调查,一名从台积电离职的员工在加入威力科创后,与仍在台积电任职的前同事串通,非法拍摄了多达上千张涉及2nm制程工艺的机密照片。这一行为最终被台积电内部安控系统察觉,目前共有9人涉案,其中情节较重的3人已被羁押,案件正式进入司法程序。

尽管事件尚未最终定论,但威力科创无论从企业形象还是商业关系上都处于相当被动的局面。早在6月案件进入法律程序前,就曾有消息称该公司派出高层管理人员前往台积电“负荆请罪”,当时接待他们的是台积电执行副总经理兼共同运营长秦永沛。

然而,台积电态度坚决,并未因对方的道歉而放弃依法追责。最新进展显示,威力科创预计将再度派出社长级别的高管赴台,试图与台积电协商后续处理方案。毕竟台积电作为其长期重要客户,双方合作多年,仍存一定的情谊与协商空间。高层直接对话,或许能为这场风波寻找一个相对体面的收场方式。

事件曝光后,威力科创已迅速与涉事员工切割,并予以开除。考虑到该公司半导体设备在业内的不可替代性,双方谈判很可能将围绕经济补偿展开,例如赔偿金或设备价格优惠等方案。彻底决裂对双方皆无益处,因此仍倾向于通过协商化解争议。

员工涉嫌窃取2nm工艺机密


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