据美国纽约州州长办公室于当地时间今日向路透社透露的消息，ASML 生产的 High NA EUV 光刻机首批组件已经顺利抵达该州境内的奥尔巴尼纳米技术综合体（Albany NanoTech Complex）。这台设备堪称半导体制造领域的“超级武器”，其到来标志着美国正在下一代芯片制造技术赛道上全力加速。
根据综合体管理方 NY Creates（纽约研究、经济促进、技术、工程和科学中心）在社交媒体上发布的照片，这一关键设备已于当地时间昨日启程，迈入前往综合体的最后运输阶段。从照片可见，运输过程极为隆重——毕竟这台设备价值连城，运输难度堪比搬动一座精密仪器大厦。
▲ 图源：NY Creates
NY Creates 总裁兼首席执行官 Dave Anderson 表示，奥尔巴尼纳米技术综合体是北美地区唯一具备此类规模的设施，其定位与重点与比利时 imec 类似。他强调，这台 High NA EUV 光刻机“将彻底改变我们未来的业务范围以及美国的研发活动”，“我们实际上正处在下一代技术发展的核心位置”。
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