2月23日，阿斯麦（ASML）透露了一项技术突破。通过提升光刻机极紫外光源的功率至1000瓦，公司预计到2030年，极紫外光刻机每小时所能加工的晶圆产量将提升50%。阿斯麦是全球唯一能够量产商用极紫外光刻（EUV）设备的厂商，这项技术是台积电、英特尔等芯片制造商生产先进计算芯片的关键工具。
2030年ASML EUV光刻机产能将提升50%，每小时晶圆产量大增
2月23日，阿斯麦（ASML US）表示，通过提升功率，可将光刻机极紫外光源的功率提升至1000瓦特，预计到2030年极紫外光刻机的每小时晶圆产量可增加50%。阿斯麦是全球唯一一家生产商用极紫外光刻
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