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日本断供EUV材料,韩企加速国产替代仍临挑战

时间:2026-01-13 13:01
日本在极紫外光刻技术领域虽未能赶上先进光刻机制造水平,但在关键配套材料方面仍具有重要影响力,尤其体现在极紫外光刻胶和极紫外掩模等核心材料上。目前,三星所使用的极紫外掩模几乎完全依赖从日本进口,主要供

日本主导EUV材料供应,韩企加速国产替代但挑战仍存

日本在极紫外光刻技术领域虽未能赶上先进光刻机制造水平,但在关键配套材料方面仍具有重要影响力,尤其体现在极紫外光刻胶和极紫外掩模等核心材料上。目前,三星所使用的极紫外掩模几乎完全依赖从日本进口,主要供应商为豪雅和AGC,这两家企业在光学玻璃领域积淀深厚,长期占据全球极紫外掩模供应的重要位置。

然而自2019年起,日本对韩国实施了针对三种关键半导体材料的出口限制,促使韩国加速推进关键技术的本土化替代进程。近年来,韩国在极紫外掩模领域取得实质性进展。过去数年间,三星持续与本土企业S&S科技合作研发,最新消息显示,相关产品已完成关键验证阶段,预计将于第二季度启动供货。

鉴于极紫外光刻设备及工艺本身复杂度高、成本昂贵,三星不会立即全面切换至国产掩模,而是采取逐步替代策略,初期以小批量导入为主,再根据实际应用效果稳步扩大使用范围。这一路径同样有望被SK海力士采纳,未来或将加大韩国本土生产的极紫外掩模采购比例。

尽管如此,韩国在摆脱对日本关键材料依赖的整体进展仍存在局限。早在六年前便提出实现极紫外光刻胶自主供应的目标,但至今该领域仍由日本企业主导,韩国具备量产能力的企业数量极少。这不仅反映出极紫外相关技术研发门槛极高,也暴露出部分配套材料市场规模相对有限的现实。例如,全球极紫外掩模年市场规模约为3亿美元,其中三星用量估计约为三分之一,合1亿美元左右,而研发所需投入可能已超过该市场规模。

相比之下,国内市场的情况则有所不同。由于对极紫外及深紫外光刻相关材料和设备的需求体量远大于韩国,国产替代的空间更为广阔,同时推动自主化进程的紧迫性也更强。

来源:https://dt.zol.com.cn/1117/11174272.html
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