12月22日传来消息，长久以来，EUV光刻技术一直被认为是制造顶级逻辑与存储芯片的专有工艺。

然而近期，比利时微电子研究中心（IMEC）首次成功利用ASML的EUV光刻设备，在300毫米晶圆上实现了固态纳米孔的晶圆级制造。

这项突破被ASML的公关负责人誉为“一次意想不到且出色的生物医学应用”。

所谓纳米孔，是指直径仅为几纳米的微小孔道，其精细程度大约是人类头发丝的万分之一。在生物传感领域，纳米孔的作用就像一个“分子检测站”。

当离子电流流过这些孔洞时，其中通过的分子（如病毒、蛋白质或DNA）会对电流产生独特的信号。科学家们可以根据这些独特的电信号，高灵敏度地分辨出分子的尺寸、结构和电荷。

尽管纳米孔在基因组学和蛋白质组学中潜力巨大，但以往受限于制造变异大和集成困难，始终无法实现大规模生产。

IMEC的突破在于利用EUV技术确保了孔径的高度一致性，目前孔径已精确缩小至约10纳米，未来更有可能通过工艺改进突破5纳米。

更重要的是，这种方法与CMOS工艺兼容，这意味着生物传感器可以像生产芯片一样，在300毫米晶圆上实现大规模制造。

IMEC研发项目经理Ashesh Ray Chaudhuri表示，将原本用于芯片制造的EUV基础设施应用于生命科学，已经为高通量生物传感器阵列的诞生打开了大门。