ASML CEO预计High NA EUV光刻机2028年前投入量产
12月15日，根据IT之家消息，ASML首席执行官Christophe Fouquet（克里斯托夫·富凯）在公司总部接受彭博社专访时透露，他预计High-NA EUV光刻机将于2027至2028年间正式投入先进制程的大规模量产作业。
目前在引入新一代图案化技术方面最为积极的是英特尔代工，其支持High-NA EUV的Intel 14A节点预计将在2027年正式推出。
Fouquet表示，High-NA EUV光刻机目前正由英特尔等客户进行测试，结果显示新设备的成像和分辨率表现良好。该公司2026年的主要任务之一，是与客户合作将设备的停机时间降至最低。
Fouquet还提到，ASML对未来10至15年的大致技术路线已有初步规划。公司已启动下一代Hyper-NA EUV的研究，为本世纪30年代的投产奠定基础。
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