截至2025年11月，极紫外光刻（EUV）技术已成为5纳米及更先进制程不可或缺的核心工艺。目前全球仅有荷兰ASML公司掌握着EUV光刻机的量产能力，而在EUV光刻胶这一细分领域，日本企业展现出显著的技术优势与产业竞争力。面对2纳米及以下制程的技术演进，日本三大半导体材料企业正加速产能扩张，积极布局未来市场争夺战。

近日，东京应化工业宣布将投入200亿日元（约合1.3亿美元），在韩国平泽建造全新光刻胶生产基地，预计2030年前投入运营。平泽作为三星电子与SK海力士等半导体巨头的制造枢纽，拥有完善的产业链配套与市场需求基础。该项目投产后，该公司在韩国的光刻胶产能预计将提升三至四倍，显著增强对本土客户的服务能力。

与此同时，东京应化工业还计划追加120亿日元投资，在韩国建设高纯度化学品生产基地，服务于先进半导体制造流程。这一系列战略布局被业界普遍解读为日本材料企业为应对2纳米及更先进制程需求而开展的未雨绸缪之举。

在EUV光刻胶领域占据重要地位的JSR公司，也已启动在韩国建设MOR型光刻胶工厂的计划，预计明年年底前实现量产。此类专为EUV曝光工艺设计的光刻胶，具备更高分辨率与灵敏度，是支撑下一代芯片微缩的关键材料之一。

此外，百年化工企业阿德卡宣布将在日本本土投入32亿日元，新建MOR型光刻胶生产线，目标于2028年4月启动批量生产。该类型光刻胶以金属氧化物为核心成分，专为满足EUV光刻在极窄线宽下的性能要求而开发，现已成为先进逻辑芯片制造的主流选择。日本国内也在积极推进MOR型光刻胶的研发与产线建设，着力提升自主供应能力。

尽管日本本土尚未有企业量产2纳米节点芯片，但在半导体材料领域特别是光刻胶方面，长期占据全球超过91%的市场份额。凭借技术积累与全球化产能布局，日本材料企业正深度参与先进制程的国际竞争，持续巩固其在半导体产业链上游的关键地位。