屹唐科技起诉应用材料侵权，索赔9999万捍卫核心技术

8月13日晚间，国内半导体设备制造商屹唐股份发布重要公告，公司已正式向北京知识产权法院提起诉讼，目前案件已被受理，即将进入审理程序。

这起诉讼的起因是应用材料公司（AMAT）涉嫌非法获取并使用了屹唐股份在等离子体源及晶圆表面处理领域的核心技术机密。更严重的是，AMAT还以申请专利的方式在中国境内公开了这些技术秘密。屹唐股份认为，这已构成严重的商业秘密侵权行为。

在诉讼请求中，屹唐股份要求法院判令被告立即停止获取和使用相关技术秘密，并赔偿经济损失及维权合理支出共计9999万元。

公司特别强调，此次诉讼是为了保护创新者的知识产权，维护自身合法权益。公告表示，该诉讼不会对公司正常经营造成重大不利影响，但最终影响程度还需等待法院判决结果。

据公告披露，屹唐股份在等离子体技术领域拥有核心竞争力。其研发的高浓度、稳定均匀的等离子体晶圆表面处理技术，已广泛应用于公司的干法去胶、干法蚀刻、表面处理及改性等半导体加工设备中。

值得注意的是，涉案的两名前员工曾就职于屹唐股份全资子公司Mattson Technology, Inc.（MTI公司）。他们在职期间均签署了严格的保密协议，对包括涉案技术在内的机密信息负有保密义务。

证据显示，这两名员工跳槽至应用材料后，作为主要发明人向中国国家知识产权局提交了一份发明专利申请。而这份专利申请中披露的技术，正是屹唐股份与MTI公司共同拥有的核心技术秘密。

屹唐股份在公告中指出，应用材料不仅非法获取和使用其技术秘密，还通过专利申请的方式公开这些机密，严重违反了《中华人民共和国反不正当竞争法》。更令人担忧的是，应用材料还涉嫌将使用该技术的产品向中国客户推广销售，进一步扩大了侵权影响。

公开资料显示，美国应用材料公司（AMAT）成立于1967年，是全球领先的半导体设备制造商，产品涵盖薄膜沉积、刻蚀、曝光显影、化学机械抛光等关键工艺设备。2024年，该公司以超过250亿美元的营收规模位居全球半导体设备供应商第二位，仅次于ASML。