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我国量子闪存技术实现归壹结构并触达理论极限

类型:热点整理2026-08-21
复旦大学团队发明“量子闪存”技术,构建共面漏极-沟道-源极“归壹”结构,首次在室温下实现单电子非易失性存储,达到“一电子一比特”的理论极限,为高密度存储器研发提供新基座,并打通全链条具备产业化潜力。

坦率地说,看到复旦大学团队发布的这一成果,第一反应就是:这确实称得上是一项重要突破。北京时间7月17日凌晨,周鹏-刘春森研究团队在《科学》杂志上公布了重磅研究——他们研发的“量子闪存”技术,成功构建出共面的漏极-沟道-源极“归壹”结构,并首次在室温(27℃)条件下,清晰观测到单电子的非易失性存储行为。

这意味着什么?过去,想要实现稳定的单电子存储,几乎被认为是不可能完成的任务。传统理论普遍认为,电子在室温环境下会受到强烈热扰动,很难真正“锁定”单个电子。但这一次,研究团队不仅实现了这一目标,还将电荷存储的信息密度推进到理论极限,真正做到了“一电子一比特”。这不是一般意义上的性能提升,而是直接打破了“单电子存储无法在室温下实现”的传统认知,并由此开辟出全新的单电子量子存储理论体系。

从产业应用和技术发展角度来看,这项成果对AI时代的算力提升和存储革命意义重大。算力要持续增长,存储与计算之间的瓶颈问题必须尽快突破。而“量子闪存”这种具备高密度、低功耗优势的新型存储技术,恰好为面向人工通用智能(AGI)需求的高密度存储器研发,提供了新的技术路径和底层支撑。

我国发明的“量子闪存”技术成功构建出共面的漏极-沟道-源极“归壹”结构 触达理论极限

更值得关注的是,研究团队已经系统打通了从底层材料、核心器件创新,到高端芯片集成与实际应用的完整链条。三个关键目标也非常明确:一是“破晓”,实现存取速度的突破;二是“归壹”,攻克存储密度的理论极限;三是“长缨”,完成与现有CMOS硅工艺兼容的原型芯片验证。这表明,这项量子存储技术并非停留在实验室概念阶段,而是真正具备迈向产业化落地和芯片应用的现实潜力。

当然,从原型芯片验证走向大规模量产,仍然需要时间与持续攻关。但技术方向已经清晰,核心基础也已经打牢。这场围绕新型存储器、量子闪存和单电子存储的技术变革,正在加速到来。

来源:https://www.cls.cn/detail/2429119

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