一位长期深耕半导体材料领域的顶尖科学家，近日作出了一项备受关注的重要决定。曾主导泛林集团与日本国立材料研究所（NIMS）联合项目、相关技术成果已成功应用于台积电日本3nm量产线的达博，正式辞去NIMS终身职位，带领团队全职回国，加盟中国科学技术大学并担任讲席教授。

在半导体材料研究方面，达博的技术积累和科研实力都十分突出。他在NIMS任职期间，仅用一年便获得终身教职，刷新了该机构最年轻终身学者的纪录。更值得关注的是，他在电子束有效利用率问题上的突破性成果，被日本学界评价为“具有与准晶发现相当的原创性意义”。这样的评价分量十足，他也因此作为唯一外籍学者受邀接受日立财团专访。

再看他此前负责的联合项目，核心聚焦于电子束与刻蚀设备中的关键材料及核心零部件。虽然相关技术已经在台积电日本3nm生产线上完成应用验证并投入量产，但现实依然十分清晰：中国大陆半导体制造在5nm以下先进制程所需的核心部件、刻蚀材料等关键环节，仍对进口存在较高依赖。此次达博团队回国，瞄准的正是半导体产业链中这一最突出的短板，目标非常明确——推动关键材料与核心零部件实现自主可控。

尽管海外也有不少高水平机构向他发出邀请，但达博最终都选择婉拒。按照他本人的说法，就是要全力推动中国半导体材料、核心零部件和先进制造配套能力尽快迈向世界先进水平。目前，团队成员已分批提前回国，在合肥参与国镜仪器科技公司的产业化平台建设，加快推动科研成果从实验室研发走向产业化产线落地。

值得一提的是，达博是甘肃人，曾以高考状元身份考入中国科学技术大学，并在中科大完成本硕博九年学习。2013年赴日本开展博士后研究，时隔十三年后，他选择重返母校。兜兜转转，从中科大出发，又回到中科大，这条路径也成为科研人才回国发展、以科技报国推动中国半导体产业进步的生动写照。