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岁半导体专家恢复中国国籍推动中微刻蚀设备突破先进制程

类型:热点整理2026-08-18
82岁的半导体设备专家尹志尧恢复中国国籍,其创立的中微公司在刻蚀设备领域取得重大突破。公司团队仅用12个月便攻克了重达150吨的大平板设备技术,打破了此类设备长期进口的局面。目前,中微的刻蚀设备已进入台积电5纳米、3纳米等全球最先进制程供应链,实现了国产高端半导体装备从追赶到并跑的关键跨越。这一成就

近日,一位年逾八旬的半导体行业领军人物,因恢复中国国籍以及企业在核心技术上的新突破,再次成为业界热议焦点。中微半导体设备公司董事长尹志尧在公开节目中表示,公司已经具备制造全球最先进半导体设备的能力,而其本人也已正式恢复中国国籍。这一系列消息,反映出中国高端半导体设备与芯片装备领域正从追赶迈向并跑的重要阶段。

82岁半导体专家恢复中国国籍 中微公司刻蚀设备突破先进制程

尹志尧被誉为“中国刻蚀机之父”,其职业经历颇具传奇色彩。他在美国半导体行业深耕数十年,先后任职于英特尔、泛林半导体和应用材料等国际知名企业,拥有数百项技术专利。2004年,60岁的他毅然放弃海外优厚待遇回国创业,创立中微公司。创业初期,团队几乎从零起步,坚持自主研发与技术创新,如今中微公司市值已超过2700亿元,成为国产半导体设备领域的重要代表企业。

技术突破:从零起步到快速落地的创新速度

在技术研发方面,中微公司展现出令人瞩目的效率。尹志尧透露,公司于2023年12月决定进入大平板设备领域,而这类高端设备过去长期依赖进口。这种设备重量高达150吨,体积庞大、研发难度极高。按照行业通常经验,开发此类半导体设备往往需要3到7年时间。然而,中微的核心团队仅用12个月就完成了从方案设计到设备可运转的关键突破,随后不到4个月便达到客户下一代技术要求,并在18个月内将设备交付至客户生产线并顺利通过核准,展现了国产高端装备的研发实力与执行效率。

产品实力:打入全球先进芯片制造供应链

经过二十多年的持续发展,中微公司的核心产品——等离子体刻蚀设备,已经获得市场广泛认可。刻蚀是芯片制造流程中至关重要且技术门槛极高的核心工艺,需要在头发丝直径几千分之一到上万分之一的尺度上完成高精度微观加工。目前,中微公司研发的CCP和ICP刻蚀设备已可覆盖90%的刻蚀应用场景,其设备已成功进入台积电5纳米、3纳米等全球最先进芯片制程的供应链,这意味着国产刻蚀设备在高端半导体制造领域实现了实质性突破,也进一步提升了中国半导体设备产业的国际竞争力。

产业协同:客户支持推动国产半导体设备替代

国产半导体设备的持续进步,离不开产业链下游客户的信任、验证与协同支持。中芯国际创始人张汝京在谈及试用国产设备时表示,导入新设备必然伴随风险,但合作企业通常会采取小批量、分阶段测试的方式,共同承担责任、逐步验证性能。他特别指出,如果没有人愿意使用国产设备,产业就难以实现进步;只有真正投入应用,才能发现问题并持续改进。这种上下游协同创新、风险共担的合作模式,为国产半导体设备的迭代升级、成熟落地以及国产替代进程提供了宝贵的应用场景和反馈闭环。

有观点认为,从核心人才回归,到技术研发快速突破,再到获得全球顶尖客户认可,中微公司的发展历程正是中国高端装备制造和国产半导体设备自主创新的一个缩影。随着全球半导体产业格局持续演变,掌握核心设备技术,已成为保障产业链安全、提升产业竞争力的重要支撑。行业专家指出,未来国产半导体设备企业如何继续保持创新节奏,拓展更多关键工艺环节的设备能力,并进一步融入全球创新网络,将成为下一阶段发展的重要课题。

来源:驱动之家

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