三星半导体近期发布的人物访谈中,其晶圆代工业务技术开发负责人구자흠再次确认了一项关键信息:三星计划在HBM5世代采用2nm工艺来制造基础裸片。事实上,早在今年3月,三星电子存储器业务开发副总裁황상준就已表达过类似观点。如今,2nm工艺在HBM技术路线图上的位置愈发清晰,成为业界关注焦点。

구자흠还透露了一个值得关注的数字:HBM5的运行速率预计将比HBM4E提升50%以上。这意味着什么?基础裸片需要支持更高密度的硅通孔(TSV),才能满足行业对带宽和容量的持续增长需求。三星选择2nm作为基础裸片工艺,目标十分明确——在性能与能效两个维度同时实现质的飞跃,进一步巩固其在HBM内存领域的领先地位。
说到这儿,不妨回顾一下三星在HBM4和HBM4E上的布局。这两个版本均配备了4nm基础裸片,但细节上有所不同。三星充分发挥了其4nm节点的灵活性,在HBM4E基础裸片中引入了高密度、超高性能器件,成功实现了14+ Gbps的高速运行。同时,金属层的重新排列不仅降低了功耗,还优化了散热路径。这些技术积累,显然为HBM5采用2nm工艺奠定了坚实基础。
