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HBM技术迭代突破AI算力内存瓶颈 引领高性能存储新纪元

类型:热点整理2026-07-22
HBM通过TSV和微凸块缩短信号路径,实现高带宽、高存储密度和低功耗。HBM3e已达16层堆叠、64GB容量、1 2TB s带宽,HBM4计划2026年问世。制造工艺聚焦TSV、键合技术,未来或引入混合键合。

算力卡的核心性能瓶颈究竟在哪里?答案非常明确——内存,更具体地说,是HBM(高带宽存储器)。数据从存储器传输到处理器的过程始终面临带宽与功耗的双重挑战。传统DRAM因带宽不足而受限,解决方案通常从两个方向入手:提升单I/O数据速率或拓宽位宽。HBM采用TSV(硅通孔)和微凸块技术,直接缩短DRAM裸片与计算核心间的信号路径。信号路径缩短后,I/O速率大幅提升,同时结合高位宽与低I/O电压,实现了高带宽、高存储密度和低功耗的平衡。然而,即便HBM技术已取得显著进展,其当前性能仍难以完全满足算力卡日益增长的需求。

三大存储原厂持续加大研发投入,推动HBM性能实现倍数级跃升。从初代HBM到如今的产品,层数、容量和带宽均快速增长。目前最先进的HBM3e版本理论指标令人瞩目:16层堆叠、64GB容量、1.2TB/s带宽,分别达到初代HBM的2倍、9.6倍和4倍。Trendforce发布的路线图进一步证实了这一趋势:2024年上半年,海力士、三星、美光将推出24GB容量、8层堆叠的HBM3e产品;下半年则计划推出36GB版本,预计采用12层堆叠技术。展望更远,HBM4预计于2026年面世。这种升级节奏之快,令人惊叹且难以同步。

来源:https://m.elecfans.com/article/2499834.html

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