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越南首座半导体前端晶圆厂破土动工

时间:2026-06-30 13:04
越南首座半导体前端晶圆厂在河内和乐高科技园区动工,占地27公顷。计划2027年底试运行,2028至2030年完善工艺、优化效能并达到国际标准,填补该国芯片制造环节的空白,实现从0到1的突破。

2025年1月17日,越南半导体产业迎来里程碑事件——越南军队工业电信集团Viettel正式宣布,该国首座半导体前端晶圆制造工厂在河内和乐高科技园区动工建设。

该项目占地面积达27公顷,规划明确。根据路线图,2027年底前将完成厂房建设与核心技术引进,并启动试运行;2028至2030年为攻坚期,重点完善工艺体系、优化产线效能,最终达到国际行业标准。同时,此阶段还将为下一代先进制程技术研发积累关键经验。

长期以来,越南在半导体产业链布局已覆盖多个环节,包括产品规划、系统架构设计、电路详细设计、封装测试及系统集成验证等六大核心领域。然而,最关键的芯片制造——即晶圆前道制程——始终缺位。此次前端晶圆厂的建设,堪称真正意义上的“从0到1”突破,它将填补越南半导体产业长期存在的最后一块拼图。

来源:https://www.php.cn/faq/1995289.html?uid=1246273
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