2025年5月25日，旭化成宣布，已于5月21日正式开发出感光性聚酰亚胺（PI）薄膜。这一创新产品整合了旭化成在感光性PI“PIMEL”与感光性干膜光刻胶“SUNFORT”领域的材料技术及生产工艺，目前已进入客户验证阶段。
该感光性PI薄膜是一种专为重布线层（RDL）设计的绝缘材料，采用薄膜工艺路线。其核心优势在于：通过层压法可在大尺寸面板上均匀涂布绝缘树脂层，膜厚均匀性卓越，能够满足多层绝缘结构的严苛要求。尤其在面板级封装（PLP）这一新兴领域，此项技术有望显著提升绝缘层良率与生产效率，成为先进封装的重要推动力。
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