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汉钟精机真空泵配套拉晶、扩散、沉积、刻蚀、镀膜等制程

时间:2026-06-04 13:03
汉钟精机真空泵产品已成功配套应用于半导体拉晶、扩散、沉积、刻蚀、镀膜等核心制程,为这些工艺提供必要的真空环境,并已实现批量供货。尽管如此,该业务目前对公司的整体业绩贡献仍然较为有限,收入占比尚小,未来增长空间有待释放。

在投资者互动平台上,有投资者直接向汉钟精机提出了一个备受关注的实际问题:在半导体真空泵领域,与国内行业龙头中科仪相比,汉钟精机在技术水平上究竟谁更胜一筹?市场份额的差距具体有多大?

针对这一尖锐的对比请求,汉钟精机给出了详尽而诚实的答复。公司表示,其真空泵产品线已全面覆盖拉晶、扩散、沉积、刻蚀、镀膜等半导体制造核心制程,能够为这些工艺环节提供稳定的真空环境,并且目前已经实现了对客户的批量供货。不过,该公司也坦承,目前半导体真空泵业务对整体业绩的贡献度仍然相对有限。

来源:https://www.163.com/dy/article/KUIL66CD0550WHYR.html
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