NVIDIA黄仁勋：7nm工艺已经足够好 HBM也不一定需要EUV
在AI芯片领域，追求极致的性能与能效，是降低庞大运营成本的关键。这也驱动着顶级芯片不断向3纳米、2纳米的尖端工艺迈进。然而，一个有趣的观点出现了：NVIDIA首席执行官黄仁勋近期公开表示，即便使用7纳米工艺，中国企业的竞争力依然不容小觑。
在日前与知名播客主持人Dwarkesh Patel的一场长达数小时的深度对谈中，黄仁勋释放了大量信息。其中，关于中国科技供应链的讨论尤为引人注目。他不仅表达了对美国限制芯片出口政策的不满，更用了一个巧妙的比喻——将其类比为铀资源管控——来阐述自己的看法。
美国在AI领域对华实施技术限制的核心逻辑之一，便是试图锁死先进制程工艺的获取。目前，国内最先进的量产工艺大致处于7纳米水平。在一些美国政客的推演中，这相比美国公司所能采用的先进工艺落后了两到三代，足以让中国AI企业落后十年之久。
但黄仁勋对此并不买账。他在节目中直言，7纳米工艺已经“足够好”。他进一步解释道，7纳米本质上对应的是Hopper架构级别的AI显卡（注：Hopper架构实际采用台积电4N工艺，为定制化的5纳米；而上一代A100采用的Ampere架构才是7纳米工艺）。关键在于，如今许多叱咤风云的大语言模型，恰恰就是在Hopper显卡上训练出来的。
那么，7纳米“足够好”的底气从何而来？另一层潜台词在于中国的能源优势。既然在电力供应方面没有受到限制，那么对于“每瓦性能”的极致追求，或许就不是唯一的胜负手。通过规模化的多卡集群，同样能够实现强大的算力输出——这正是目前国内众多企业正在积极部署的路径。
逻辑芯片的制造或许可以绕开最先进的EUV光刻机，但AI计算不可或缺的HBM（高带宽内存）呢？它是否也离不开EUV工艺？黄仁勋同样否定了这种说法。他认为，这依然是一个认知误区，完全可以通过其他方式将高性能组件整合起来，就像NVIDIA自己打造的NVL72超级集群那样。
更值得关注的是，黄仁勋还特别提及了中国企业在硅光子技术上的展示。这项技术能够高效地将庞大的计算单元连接起来，从而构建出巨型计算机系统，这为突破传统互联瓶颈提供了新的可能性。
总而言之，在黄仁勋看来，试图通过限制EUV等先进工艺来阻断中国AI发展的思路，可能并未切中要害。7纳米工艺打造的芯片已然具备强大的实力，结合超级集群的整合能力、不断优化的先进算法，中国公司的AI研发完全能够站在世界第一梯队。别忘了，全球最顶尖的AI研究人员中，有一半都来自中国。这，或许才是更根本的竞争力所在。
