英伟达Rubin架构3nm RTX 60系列曝光:DLSS 5或告别双卡,光追性能倍增
据RedGaming Tech日前透露,NVIDIA的下一代GeForce RTX 60系列将基于Rubin架构打造,并预计继续采用台积电3nm FinFET工艺,而非更先进的2nm以下节点。
不过,知名硬件媒体VideoCardz随后发文泼了冷水,指出目前NVIDIA连最终的产品命名都尚未确定,Rubin游戏芯片甚至还没有流片,所有详细规格目前均为纯猜测。

RedGaming Tech提供了大量参数预测,称RTX 60系列将引入第六代Tensor核心和第五代RT核心。其中,第六代Tensor核心配合算力提升,目标是将DLSS 5的实时AI渲染效果带入单卡性能范围——作为参考,NVIDIA此前展示DLSS 5时需要双RTX 5090才能运行。而第五代RT核心则瞄准光线追踪性能的代际翻倍,相比RTX 50系列可实现100%的实时路径追踪性能提升。
在传统光栅性能方面,预计代际提升幅度较为保守,SKU对SKU相比RTX 50系列增长约30%至35%,主要依赖3nm工艺带来的IPC(每时钟周期指令数)、频率和能效进步。GPU频率预计维持在2GHz多到3GHz出头的区间,与当前Blackwell架构差距不大。
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