iPhone 20前瞻:四曲面极窄边设计,屏幕窄至1.1毫米
快科技3月31日消息,据报道,苹果20周年纪念版iPhone 20将采用1.1毫米极窄屏幕边框,搭配极致圆润的边缘处理与四曲面瀑布屏设计,整机视觉效果接近无缝玻璃面板。
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此次曝光的设计核心为真全面屏形态,为配合1.1毫米窄边框,iPhone 20采用四边均向中框自然弯曲的四曲面屏幕,进一步弱化边框存在感,提升正面屏占比与一体感。

圆润边缘与四曲面造型相契合,可减少视觉断层,让机身握持手感更顺滑,同时强化整机的精致感与辨识度。
要实现该外观,苹果需将前置摄像头与面容识别组件置于屏幕下方,这也是真全面屏方案的关键技术难点。
据悉,当前研发团队仍面临光线穿透率不足、屏下传感器识别精度未达标的问题,影响屏下摄像头成像与Face ID解锁稳定性。
有媒体指出,iPhone 20距离量产仍有约18个月时间,苹果有充足周期优化屏下透光、算法校准等环节,逐步解决现有技术瓶颈。

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