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三星加速研发HBM4E芯片,基础裸片或采用2nm工艺

时间:2026-03-15 09:40
IT之家 3 月 13 日消息,据韩媒 Business Korea 昨天报道,三星电子计划在下一代 HBM 芯片中应用 2nm 制程工艺,在提升技术竞争力的同时紧密结合内存制造、半导体代工能力。行

据IT之家3月13日消息,韩国媒体Business Korea最新报道称,三星电子计划在其下一代HBM芯片中引入2纳米制程工艺。此举旨在通过将先进内存制造与半导体代工能力紧密融合,在提升技术竞争力的同时,巩固其行业领先地位。

有行业内部人士透露,三星正在为第七代HBM(HBM4E)的基础芯片评估2纳米制程工艺的应用前景。

从技术原理来看,HBM由核心芯片和基础芯片两部分构成。核心芯片是垂直堆叠的DRAM,而基础芯片则扮演控制器的角色。在HBM3E之前的版本中,基础芯片仅负责相对基础的控制功能;但从HBM4时代开始,它需要直接处理部分计算任务,其中的逻辑电路功能得到显著加强,重要性也随之大幅提升。

为了提升HBM4的整体性能,三星电子已经与三星晶圆代工部门合作,成功生产出采用4纳米工艺的基础芯片,并结合了最先进的1c DRAM(第六代10纳米工艺),从而在竞争中领先于采用台积电12纳米工艺的SK海力士。

半导体行业预计,从HBM4E开始,面向客户定制的HBM芯片将正式登场。三星计划在年中发布标准版HBM4E,下半年则根据客户安排,为定制产品进行首次流片。

来源:https://www.163.com/dy/article/KNTODFEL0511B8LM.html
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