近期,ASML宣布已将其极紫外EUV光刻系统的光源功率从目前的约600瓦提升至1000瓦。据路透社报道,该公司表示,到2030年代末,这一技术突破有望将芯片产量提升最高达50%。光源功率的提升将直接转化为更高的生产效率。

ASML表示,到2030年,客户每小时可处理约330片晶圆,而目前约为220片/小时,这将显著降低单颗芯片的生产成本。为实现1000瓦功率目标,ASML将锡液滴喷射速率翻倍至每秒约10万滴,并将单脉冲激发光方案升级为双脉冲整形技术。
该公司透露,未来功率还有望进一步提升至1500瓦,甚至2000瓦。ASML是全球唯一商用EUV光刻机供应商,台积电、SK海力士、英特尔等主流芯片厂商均在使用其设备。
