日本在极紫外光刻设备领域虽已退出竞争，但它依然是全球第二大光刻设备供应国。近年来，多家日本企业持续投入研发，积极探索能够替代EUV的新型光刻技术路径，其中，纳米压印光刻技术被视为主要发展方向。
此前，佳能、尼康等企业已相继展示相关技术成果。近日，大日本印刷株式会社宣布成功开发出可达10纳米级别的纳米压印技术，能够将电路图案直接转印至基板。这项技术已具备支持1.4纳米工艺节点逻辑芯片制造的能力。
在具体技术实现上，DNP采用了自对准双重图案化工艺，通过单次曝光与两次图形化步骤，实现了精度翻倍的微缩效果，能满足先进制程对分辨率的严苛要求。同时，该方案在功耗控制方面表现突出，据称其运行能耗仅为当前主流光刻工艺的十分之一。
DNP对纳米压印技术的研发积累已超过二十年，目前其技术成熟度已达到可部分替代极紫外光刻的水平，为芯片制造商提供了另一条可行的高精度制造方案。现阶段，公司正与多家设备及材料供应商展开合作，推进技术评估与整合验证工作。
按照规划，在完成客户验证并构建完善的量产与供应链体系后，DNP预计将于2027年启动该项技术的规模化出货。
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