12月15日，ASML首席执行官克里斯托弗·富凯在公司总部接受采访时表示，新一代High NA EUV光刻机预计将在2027至2028年间正式应用于先进制程的大规模量产。目前，在推进新一代图案化技术方面，英特尔代工处于领先地位，其支持High NA EUV的Intel 14A工艺节点计划于2027年推出。
富凯指出，现阶段包括英特尔在内的客户正在对High NA EUV设备进行测试，初步反馈显示新设备在成像质量和分辨率方面表现优异。企业下一阶段的重点任务之一是在2026年与客户紧密协作，进一步优化设备运行效率，力求将停机时间降至最低。
此外，富凯透露，ASML已对未来10至15年的技术发展路径形成初步规划。目前公司已着手开展下一代Hyper NA EUV技术的研发工作，旨在为2030年代的技术演进和设备部署奠定基础。
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