国产光刻机突破：上海微电子首发350nm设备，迈向高端自主
上海芯上微装科技股份有限公司近日在半导体设备领域取得重大突破，其自主研发的350纳米步进光刻机AST6200已完成出厂调试与验收，正式投入商业运行并向客户交付。这一成果标志着我国在高精度半导体光刻设备领域实现关键技术自主突破，为国产设备向高端化、自主化发展树立了全新里程碑。
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AST6200光刻机凝聚了芯上微装多年积累的光学系统设计、精密运动控制及半导体工艺经验。该设备采用全自主可控技术路线，专为功率器件、射频芯片、光电子及Micro-LED等先进制造场景打造，具备高吞吐量与高稳定性双重优势。其核心性能指标包括：通过大数值孔径投影物镜与可变光阑技术实现350纳米分辨率成像能力；套刻精度方面，正面套刻误差控制在80纳米以内，背面套刻误差优于500纳米，可满足多层图形精准对准需求；生产效率方面，设备搭载高照度I-line光源（波长365纳米）与高速直线电机基底传输系统，支持2至8英寸多种规格基片快速切换，运动台系统最大加速度达1.5g，显著提升单位时间产能。
在工艺适应性方面，AST6200展现出卓越的兼容性。设备支持硅（Si）、碳化硅（SiC）、磷化铟（InP）、砷化镓（GaAs）及蓝宝石等多种材质基片加工，可处理平边、双平边、Notch等不同形态基片。其创新的调焦调平系统采用多光斑、大角度入射设计，能够精准测量透明、半透明、不透明及大台阶基底表面形貌。设备可选配背面对准模块，满足键合片等复杂制程的背面对准需求。
软件层面，AST6200搭载芯上微装全栈自主研发的控制系统，覆盖从底层驱动到上层工艺管理的完整链条。该系统不仅实现100%自主可控，更具备强大的工艺扩展能力与远程运维功能，可快速响应不同应用场景的定制化需求。通过软硬件协同优化，设备在降低拥有成本（COO）的同时，为国产半导体生态构建提供了关键技术支撑。
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