11月27日有消息称，作为全球领先的半导体芯片代工厂，台积电的技术机密极易成为他方觊觎的目标。近期的一个典型案例是前高管罗唯仁跳槽Intel引发的风波，而两个月前另一起案件则牵涉日本半导体巨头。

涉事公司为日本KEL威力科创，该公司一名陈姓员工曾在台积电任职，离职后加入TEL，却仍通过此前建立的关系网获取大量台积电技术信息，其中包含2纳米工艺的关键机密，最终触发台积电监控系统，该员工随后被捕，并于8月被法院判决。

事件曝光后，威力科创随即解雇了这名员工，并于近期再次发布公告称，经公司内部调查，目前尚未发现相关机密信息外泄至第三方，也未发现有组织性地指示该名前员工获取不当信息的行为。

随后有传闻称，TEL高层及社长等公司领导两度赴台积电负荆请罪，但此事仍在一定程度上影响了双方的合作关系。日前台积电公布优秀供应商名单，TEL公司便未能位列其中。

台积电在日前举办的供应链管理论坛上公布的这份名单，旨在表彰合作伙伴在推动2纳米等先进制程与封装技术的研发、优化及产能扩建工作中的突出贡献，并持续助力台积电拓展全球生产布局。

在这份企业名单中，包括阿斯麦、应用材料、科磊、泛林集团等全球半导体巨头。TEL作为三大蚀刻机供应商之一，此前并非没有中选过，但这次落选显然并非其产品性能问题，而是与近期发生的窃密案对其评价造成的影响有关。

不过台积电也不太可能完全取消与KEL的合作，能够生产用于2纳米及未来工艺蚀刻机的厂商并不多，放弃TEL意味着只能选择科磊、泛林两家美国公司，这显然不利于台积电与厂商之间的博弈。