11月26日，上海芯上微装科技股份有限公司正式宣布，公司自主研制的首台350nm步进光刻机（AST6200）已完成出厂调试与验收，正式发往客户现场投入使用。
芯上微装指出，这一重要进展标志着我国在高端半导体光刻设备领域再次实现了关键技术突破。
据介绍，AST6200光刻机是芯上微装着力打造的全自主可控步进式光刻设备，专为功率、射频、光电子及Micro LED等应用场景量身定制。
该设备配备的高分辨率成像系统满足先进工艺需求，搭载大数值孔径投影物镜，结合多种照明模式与可变光瞳技术，实现了350nm高分辨率，完全符合当前主流化合物半导体芯片的光刻工艺要求。
通过高精度套刻配置与高精度对准系统，设备实现了正面套刻80nm、背面套刻500nm的精度，确保多层图形精准套刻，大幅提升器件良率。
值得注意的是，AST6200还搭载了芯上微装自主研发的全栈式软件控制系统，从底层驱动到上层工艺管理实现完全自主可控。
公开资料显示，芯上微装成立于2025年2月，是一家专注于高端半导体装备研发、生产和服务的创新型科技企业，目前主力产品包括晶圆级先进封装光刻机、激光退火设备和前道晶圆缺陷检测设备。
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