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iPhone 18 Pro渲染图曝光:挖孔屏消失,致敬20周年设计

时间:2025-11-23 21:37
11月15日消息,根据博主爆料的消息,明年的iPhone 18 Pro系列将首次缩小灵动岛面积,2027年亮相的20周年iPhone将会把Face ID和前摄全部置于屏幕下方,实现真面屏形态。有博主

根据数码博主的爆料,明年发布的iPhone 18 Pro系列将首次缩减灵动岛面积,而2027年登场的20周年纪念款iPhone则会把Face ID和前摄模组全部隐藏于屏幕下方,实现真正意义上的全面屏形态。

有博主根据泄露信息绘制了iPhone 18 Pro和20周年款iPhone的渲染图,从图中可见这两代手机正面的挖孔区域正在逐步消失。

iPhone 18 Pro/20周年iPhone渲染图出炉:挖孔渐渐消失

目前安卓阵营已经推出了多款屏下前摄机型,其中代表作包括努比亚最新款红魔11 Pro系列以及Z80 Ultra,二者都实现了真全面屏设计。以努比亚Z80 Ultra为例,该机型采用纳米级高透材料与独立像素驱动技术,显著提升了屏下摄像区域的透光率,最终让前置镜头在屏幕下方完美隐匿。

相较于安卓方案,苹果要实现真全面屏设计面临更大挑战——不仅需要解决屏下前摄的技术难题,还需将Face ID模组同步置于屏幕下方,既要保证显示效果不受影响,又要确保人脸识别的精准度。

值得关注的是,苹果近期多项关于屏下Face ID的专利相继曝光。根据最新专利文件显示,苹果通过创新性地移除特定像素单元,使红外光线能够更顺畅地穿透屏幕盖板,从而为高效的屏下人脸识别技术铺平道路。

iPhone 18 Pro/20周年iPhone渲染图出炉:挖孔渐渐消失

来源:https://m.mydrivers.com/newsview/1086797.html
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