11月3日消息，业界普遍认为EUV光刻工艺是5纳米制程之后不可或缺的关键技术。在全球范围内，能够生产EUV光刻机的厂商仅有荷兰的ASML，但日本企业在EUV光刻胶领域却展现出显著优势。针对未来2纳米及更先进制程的需求，日本三大化工巨头正积极布局产能扩张。
日本半导体材料供应商东京应化工业近日宣布，将投入200亿日元在韩国平泽市建设光刻胶生产基地，投资额约合1.3亿美元，预计新工厂将于2030年正式投产。
平泽作为三星电子、SK海力士等韩国半导体巨头的重要生产据点，新工厂投产后将使东京应化在韩国的产能提升三到四倍，更好地满足客户对先进制程材料的旺盛需求。
此外，东京应化还计划在韩国追加投资120亿日元建设高纯度化学品工厂，该工厂同样将采用先进半导体工艺。这一系列投资被业界解读为日本厂商正在积极扩产，为2纳米及更先进制程的产业化需求做好前期准备。
同为EUV光刻胶巨头的JSR公司也将在韩国投资建设MOR型光刻胶工厂，并计划在明年年底前實現规模化量产。
另一家百年企业艾迪科也宣布将在日本本土进行产能扩张，投入32亿日元在日本建设MOR型光刻胶工厂，预计2028年4月即可实现量产。
MOR型光刻胶以金属氧化物为基础材料，专为EUV光刻工艺研发。目前国内产业链也在积极布局MOR光刻胶的研发与生产线建设。
在半导体材料领域，特别是在光刻胶细分市场，日本企业长期占据全球90%以上的市场份额。虽然日本本土目前尚未建成2纳米制程的芯片制造厂，但这些企业通过海外布局展现出对2纳米及更先进制程志在必得的决心。
