2025年9月25日消息显示，Intel正在加速布局ASML尖端光刻技术，该企业计划将High-NA EUV光刻机的采购订单从一台追加至两台，采购量直接翻番。这项重大决策凸显出Intel在先进制程领域持续加码的战略规划。
ASML研发的High-NA EUV系统代表着当前光刻技术的巅峰水平，其突破性的分辨率可完美满足未来更精密芯片结构的制造需求。值得注意的是，该设备仅向全球少数顶级芯片制造商开放供应，目前仅有台积电、三星、SK海力士和Intel四家企业具备采购资质。
这项尖端技术将被重点应用于Intel的14A制程节点，这标志着该公司代工业务发展的重要战略机遇。14A工艺的实际表现将成为决定性因素——若能获得市场认可并实现量产突破，将助力Intel保持在高端芯片制造的第一梯队；反之，则可能迫使其重新考量在尖端工艺领域的长期投资战略。
业内估算显示，单台High-NA EUV系统的采购成本约为3.7亿美元，计入配套建设与技术整合费用后，Intel此项战略投资总额预计将高达10-20亿美元区间，充分体现了其争夺技术制高点的坚定决心。
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