国产深紫外光刻机取得突破，中芯国际测试助力芯片自主化
中芯国际日前正对上海新兴企业宇量昇研发的浸没式深紫外线光刻机进行测试评估。这款国产设备的运作原理与国际大厂产品类似，有望打破国内在这一关键设备领域长期依赖进口的局面。
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作为国内半导体制造的龙头企业，中芯国际过去主要依赖进口深紫外线光刻设备。但随着国外技术出口管制日益严格，企业只能获得落后一代的设备资源，这严重制约了其在先进制程领域的发展步伐。
消息人士透露，此次测试的国产设备可稳定支持28纳米工艺量产，通过多重曝光技术还可延伸至7纳米制程。更值得关注的是，在特定工艺调校下，该设备理论上具备尝试5纳米芯片研发的可能性，不过受限于当前工艺成熟度，其产品良率尚达不到量产要求。
业内人士指出，若国产深紫外线光刻机最终通过验证并实现规模化应用，将大幅提升中国半导体产业链的自主可控能力。尤其在当前人工智能等高性能计算芯片需求激增的背景下，此举具有重大战略意义。多位分析师认为，此次测试不仅是国产光刻装备迈向成熟的重要里程碑，更将为更先进设备的自主研发积累宝贵经验。
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