近日备受关注的台积电2纳米制程技术泄露案件已查明真相，共有9人涉案，其中3人被判有期徒刑7至9年不等。

此案中最受瞩目的焦点在于日本企业KEL威力科创也被牵连其中。该案主犯陈某，在离开台积电后加入该企业。他在职期间主动联系前同事，拍摄了上千张与2nm工艺相关的照片，最终被判处14年有期徒刑。

威力科创方面此前已声明，该员工早已被辞退，并强调公司内部调查未发现有任何机密资料外泄至第三方的情况，也未发现公司有组织性地授意该员工获取不当信息。尽管如此，外界对该公司的质疑并未完全消除。此前，威力科创已派高层代表向台积电道歉，有消息称上个月还计划由公司社长亲自登门致歉。

恰逢近日半导体行业展会举行，KEL社长河合利树并未按原计划出席公开活动，而是转而前往新竹与台积电CEO魏哲家会面。两人进行了私下会谈，会谈内容并未对外公开。

预计此次会面中，河合利树将就2nm技术泄露事件再次向台积电表达歉意，并提出相应的后续处理方案。不过，具体措施尚未披露。

KEL是全球领先的半导体设备制造商之一，台积电则是其长期重要合作伙伴。两家公司合作历史超过数十年，此次事件虽带来一定冲击，但双方仍可能基于商业利益进行调整和补偿。据悉，未来KEL可能在设备采购方面给予台积电一定优惠，例如刻蚀设备的采购折扣，毕竟台积电的2nm工艺技术仍需依赖高精度的刻蚀设备支持。