SK海力士全球首推High NA EUV设备EXE:5200B,实现量产突破
9 月 3 日消息,SK 海力士今日宣布,已将业界(指存储行业)首款量产型高数值孔径极紫外光刻机(High NA EUV)引进韩国利川 M16 工厂,并举行了设备入厂庆祝仪式。

High NA EUV 拥有比当前 EUV 更高的数值孔径(NA),可大幅提升分辨率,能够绘制当前最微细的电路图案,预计将在缩小线宽和提升集成度方面发挥关键作用。
注:数值孔径(Numerical Aperture)是用来衡量透镜汇聚光线能力的数值。NA 值越大,电路图案绘制的精密度越高。电路图案制作越精密,每块晶圆上可生产的芯片数量就越多,同时也能有效提高能效与性能。

据介绍,此次引进的设备为荷兰 ASML 公司推出的 TWINSCAN EXE:5200B,它是首款量产型 High-NA EUV 设备,EUV 光波长 13.5nm,分辨率达 8nm。
与现有的 EUV 设备(NA 0.33)相比,其光学性能(NA 0.55)提升了 40%,这一改进使其能够制作出精密度高达 1.7 倍的电路图案,并将集成度提升 2.9 倍。
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