台积电2nm技术遭窃密 法务团队重拳出击

8月12日消息，近日台积电2nm工艺技术遭窃一事引发广泛关注，涉案企业包括日本设备大厂威力科创（TEL）。

据知情人士透露，早在事件曝光前，涉事日企就曾派高管赴台积电"负荆请罪"。但台积电态度强硬，不仅拒绝和解，更直接启动法律程序，目前已正式提起诉讼。

案件最终走向尚难预料，但参考过往案例，涉案人员必将面临严厉惩处。即便刑满释放，这些人在半导体行业恐怕也难有立足之地。

在知识产权保护方面，台积电法务团队向来以铁腕著称。不仅会对商业间谍穷追猛打，就连离职员工若涉嫌泄密，也会遭到持续追责。

最典型的案例当属台积电前技术大拿梁孟松。作为研发"六骑士"之一，他在0.13微米工艺突破中立下汗马功劳。正是这一关键技术的自主研发（而非与IBM合作），奠定了台积电后来居上的基础。

然而这位功勋人物却在2009年黯然离职。业内普遍认为，这与公司内部权力斗争有关。梁孟松先是赴韩国成均馆大学任教，待竞业禁止期满后，于2011年加盟三星。

令人玩味的是，三星最具代表性的14nm工艺突破，据传就有梁孟松的贡献。这也直接导致苹果首次将A9处理器订单分给台积电和三星两家代工。

此举彻底激怒台积电，随即对梁孟松发起长达四年的法律诉讼。最终梁孟松被迫离开三星，转投中芯国际。

值得一提的是，中芯国际与台积电的恩怨由来已久。两家公司从创立之初就存在竞争关系，台积电曾两次对中芯国际发起诉讼，几乎将后者逼入绝境。这段半导体行业的恩怨情仇，堪称一部商业传奇。